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Manomètre capacitif MKS Baratron 722A11TA2FK tout neuf

Manomètre capacitif MKS Baratron 722A11TA2FK tout neuf

Manomètre capacitif MKS Baratron 722A11TA2FK tout neuf

Haute précision, performances stables

Adapté à l'automatisation industrielle

En stock et livraison rapide dans le monde entier

  • Numéro d\'article.:

    722A11TA2FK
  • Commande (MOQ):

    1
  • Paiement:

    100% T/T
  • Origine du produit:

    USA
  • Couleur:

    As Model
  • Port d\'expédition:

    Xiamen
  • Délai de mise en œuvre:

    2-3 days
  • Détails du produit

Description :

Les manomètres capacitifs MKS Baratron sont des transducteurs de pression/vide absolu haut de gamme de haute précision, la référence industrielle pour les équipements de procédés sous vide dans l’industrie des semi-conducteurs. Basé sur une technologie brevetée de détection par diaphragme capacitif, il fournit une lecture de pression indépendante du type de gaz, totalement insensible à la composition du gaz de procédé. Largement compatible avec les plateformes de fabrication de wafers AMAT, LAM Research et les principales plateformes du secteur, il assure un contrôle de pression en boucle fermée ultra stable pour les procédés de gravure, CVD, PVD, ALD et les systèmes de distribution de gaz, garantissant une précision de vide constante en chambre et améliorant le rendement de production pour la fabrication des semi-conducteurs.
 
 
 
Spécifications clés :
  1. Précision haut de gamme jusqu’à ±0,25% de la lecture, résolution ultra-fine de 0,01% pleine échelle, excellente stabilité à long terme et dérive minimale pour répondre aux exigences strictes des procédés semi-conducteursMKS.
  2. Les parties en contact avec le diaphragme et les fluides sont en alliage de nickel Inconel® / Incoloy® ou en acier inoxydable 316L avec une structure entièrement soudée, résistante aux gaz de procédés spéciaux corrosifs. Testé à 100% pour l’étanchéité avant livraison afin de garantir un fonctionnement sûr dans des environnements plasma difficiles.
  3. Couvre du vide ultra-fin jusqu’aux hautes pressions : 0,1 mTorr ~ 3000 PSIA. Les modèles chauffés (45℃ / 100℃ en option) empêchent efficacement la condensation des médias de procédé volatils afin d’éviter les écarts de mesure.
 
 
 

Applications :

  1. Équipements de fabrication de semi-conducteurs : systèmes de gravure AMAT Centura/Endura, LAM Kiyo/2300
  2. Contrôle précis du vide pour la déposition de couches minces, la gravure plasma et l’implantation ionique
  3. Armoire de gaz MFC, système de pompage sous vide, détection de fuites et interverrouillage de sécurité de pression
  4. Énergie solaire PV, revêtement LED, traitement sous vide pharmaceutique et tests de vide de haute précision en laboratoire

 

 

FAQ :

Q1 : Quel est l’état du produit et la garantie ?
R : Articles authentiques neufs. Garantie d’un an incluse.

Q2 : Quelles sont vos conditions de paiement ?
R : T/T, Paypal pris en charge.

Q3 : Quel est le délai de livraison du produit ? Y a-t-il suffisamment de stock ?
R : Modèles standards en stock, expédiés sous 3 à 5 jours ouvrables après paiement. Les modèles rares nécessitent une commande fabricant — contactez le service client pour les délais.

Q4 : Expédition et suivi
R : DHL/FedEx/UPS disponibles. Numéro de suivi + lien fournis après expédition. Suivi complet par notre équipe.

Q5 : Emballage et sécurité

 

R : Emballage d’origine de la marque avec protection renforcée (mousse, cartons scellés, caisses en bois pour équipements de précision). Résistant à l’humidité et aux chocs.

 

 

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