Description :
Les spectromètres à fibre optique LAM Research sont des dispositifs de surveillance optique de haute précision intégrés aux équipements de traitement des wafers semi-conducteurs. Principalement associés à des modules optiques professionnels, ils adoptent une conception de transmission par fibre optique pour capturer les émissions de plasma, les spectres de réflexion et de transmission à l’intérieur des chambres de procédé. Largement utilisés pour la détection du point d’équivalence d’attaque (etch endpoint), la métrologie des couches minces et la surveillance en temps réel des conditions du plasma, ces unités garantissent une stabilité des performances de procédé, améliorent le rendement de production et réduisent les produits défectueux dans les procédés de gravure, CVD, PVD et autres procédés de fabrication sous vide. En tant que composants OEM compatibles d’origine, ils offrent une excellente compatibilité et une fiabilité à long terme pour les plateformes de procédés complètes LAM.
Spécifications clés :
- Équipés de détecteurs CCD/PMT haute sensibilité, offrant une excellente résolution spectrale et un faible niveau de bruit. Couvrent la plage de longueurs d’onde UV-visible pour répondre aux divers besoins de surveillance des procédés semi-conducteurs.
- Les interfaces standard à fibre SMA prennent en charge la transmission de signaux sur longue distance. Les sondes compatibles avec le vide fonctionnent de manière stable dans des environnements à ultra-vide, haute température et plasma.
- L’analyse spectrale en temps réel permet une détermination précise du point d’équivalence de gravure, ainsi que la mesure de l’épaisseur des couches minces et des propriétés optiques, évitant efficacement la surgravure et la sous-gravure.
- Ports de communication Ethernet et RS-232 intégrés, entièrement compatibles avec les protocoles des équipements LAM pour une interaction de données et une interconnexion système transparentes.
- Structure compacte et robuste avec des capacités anti-vibration et anti-interférence. Prend en charge un fonctionnement continu 24/7 et un remplacement facile sur site.
Applications typiques :
- Systèmes de gravure plasma, équipements de dépôt de couches minces CVD, PVD et ALD
- Détection du point d’équivalence pour les procédés de gravure des wafers
- Mesure in situ de l’épaisseur des couches minces et de la réflectance
- Analyse en temps réel de l’état du plasma pour les chambres de procédés sous vide
- LAM Research 2300, 9400, ExAL et autres plateformes de procédés principales
FAQ :
Q1 : Quelle est la situation du produit et la garantie ?
R : Articles authentiques neufs. Garantie d’un an incluse.
Q2 : Quelles sont vos conditions de paiement ?
R : T/T, Paypal pris en charge.
Q3 : Quel est le délai de livraison du produit ? Y a-t-il un stock suffisant ?
R : Modèles standards en stock, expédiés sous 3 à 5 jours ouvrables après paiement. Les modèles rares nécessitent une commande auprès du fabricant — contactez le service client pour les délais.
Q4 : Expédition et suivi
R : DHL/FedEx/UPS disponibles. Numéro de suivi + lien fournis après expédition. Suivi complet par notre équipe.
Q5 : Emballage et sécurité
R : Emballage d’origine avec protection renforcée (mousse, cartons scellés, caisses en bois pour équipements de précision). Résistant à l’humidité et aux chocs.