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Tout neuf Lam Research E36W-L14 Contrôleur de débit massique

Tout neuf Lam Research E36W-L14 Contrôleur de débit massique

Tout neuf Lam Research E36W-L14 Contrôleur de débit massique

Haute précision, performances stables

Adapté à l'automatisation industrielle

En stock et livraison rapide dans le monde entier

  • Numéro d\'article.:

    E36W-L14

  • Commande (MOQ):

    1

  • Paiement:

    100% T/T

  • Origine du produit:

    USA

  • Couleur:

    As Model

  • Port d\'expédition:

    Xiamen

  • Délai de mise en œuvre：

    2-3 days
Renseignez-vous maintenant
  • Détails du produit

Description :

Les spectromètres à fibre optique LAM Research sont des dispositifs de surveillance optique de haute précision intégrés aux équipements de traitement des wafers de semi-conducteurs. Principalement associés à des modules optiques professionnels, ils adoptent une conception de transmission par fibre optique pour capturer les spectres d’émission de plasma, de réflexion et de transmission à l’intérieur des chambres de procédé. Largement utilisés pour la détection de fin d’attaque (etch endpoint), la métrologie des couches minces et la surveillance en temps réel des conditions du plasma, ces unités garantissent des performances de procédé stables, améliorent le rendement de production et réduisent les produits défectueux dans les procédés de gravure, CVD, PVD et autres procédés de fabrication sous vide. En tant que composants compatibles OEM d’origine, ils offrent une excellente compatibilité et une fiabilité à long terme pour les outils de procédé de la série complète LAM.
 
 
 
Spécifications clés :
  1. Équipés de détecteurs CCD/PMT haute sensibilité, offrant une résolution spectrale exceptionnelle et un faible niveau de bruit. Couvrent la plage de longueurs d’onde UV-visible pour répondre aux divers besoins de surveillance des procédés semi-conducteurs.
  2. Les interfaces fibre SMA standard prennent en charge la transmission de signal à longue distance. Les sondes compatibles sous vide fonctionnent de manière stable dans des environnements à vide élevé, haute température et plasma.
  3. L’analyse spectrale en temps réel permet une évaluation précise du point final de gravure, de l’épaisseur des couches minces et des propriétés optiques, évitant efficacement la surgravure et la sous-gravure.
  4. Ports de communication Ethernet et RS-232 intégrés, entièrement compatibles avec les protocoles des équipements LAM pour une interaction de données et une intégration système transparentes.
  5. Structure compacte et robuste avec capacité anti-vibration et anti-interférence. Prend en charge un fonctionnement continu 24/7 et un remplacement facile sur site.
 

 

Applications typiques :

  1. Systèmes de gravure plasma, équipements de dépôt de couches minces CVD, PVD et ALD
  2. Détection du point final pour les procédés de gravure des wafers
  3. Mesure in situ de l’épaisseur des couches minces et de la réflectance
  4. Analyse en temps réel de l’état du plasma dans les chambres de procédé sous vide
  5. LAM Research 2300, 9400, ExAL et autres plateformes de procédé principales

 

 

FAQ :

Q1 : Quel est l’état du produit et la garantie ?
R : Articles authentiques neufs. Garantie d’un an incluse.

Q2 : Quelles sont vos conditions de paiement ?
R : T/T, Paypal pris en charge.

Q3 : Quel est le délai de livraison du produit ? Y a-t-il un stock suffisant ?
R : Modèles standard en stock, expédiés sous 3 à 5 jours ouvrables après paiement. Les modèles peu disponibles nécessitent une commande auprès du fabricant — veuillez contacter le service client pour les délais.

Q4 : Expédition et suivi
R : DHL/FedEx/UPS disponibles. Numéro de suivi + lien fournis après expédition. Suivi complet du processus par notre équipe.

Q5 : Emballage et sécurité

 

R : Emballage d’origine de la marque avec protection renforcée (mousse, cartons scellés, caisses en bois pour équipements de précision). Résistant à l’humidité et aux chocs.

 

 

Balises associées : Industrial equipment Automation components Mass Flow Controller
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