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Tout nouveaux MKS MWJ-1013 RF Matchers

Tout nouveaux MKS MWJ-1013 RF Matchers

Tout nouveaux MKS MWJ-1013 RF Matchers

Haute précision, performances stables

Adapté à l'automatisation industrielle

En stock et livraison rapide dans le monde entier

  • Numéro d\'article.:

    MWJ-1013
  • Commande (MOQ):

    1
  • Paiement:

    100% T/T
  • Origine du produit:

    USA
  • Couleur:

    As Model
  • Port d\'expédition:

    Xiamen
  • Délai de mise en œuvre:

    2-3 days
  • Détails du produit

Description :

Les MKS RF Matchers (également appelés boîtiers/réseaux d’adaptation RF) sont des dispositifs d’adaptation d’impédance automatique haute performance conçus pour les systèmes plasma industriels et de semi-conducteurs. Ils alignent dynamiquement l’impédance de sortie 50Ω des générateurs RF avec l’impédance variable des chambres plasma, des graveurs (etchers), des systèmes PECVD et des équipements de sputtering, minimisant la puissance réfléchie et maximisant l’efficacité de transfert de puissance. Dotés d’un réglage rapide, d’un blindage robuste et de conceptions compactes en rack, ils garantissent un allumage plasma stable, des performances de procédé constantes et une fiabilité de production 24/7. Disponibles en neuf, reconditionné et entièrement testé d’occasion.
 
 
 
Spécifications clés :
  1. Adaptation automatique d’impédance : réglage en temps réel pour adapter la sortie 50Ω du générateur à l’impédance de charge plasma variable ; minimise la puissance réfléchie (généralement
  2. Vitesse d’accord rapide : réponse à haute vitesse (
  3. Large couverture de fréquence et de puissance : prend en charge 13.56MHz (standard), 27.12MHz, 40.68MHz ; puissances de 300W à 10kW
  4. Construction robuste : boîtier métallique renforcé avec blindage EMI/RFI ; refroidissement par air standard (option refroidissement par eau pour modèles haute puissance)
  5. Composants de précision : condensateurs variables, inductances et moteurs pas à pas de haute qualité pour une longue durée de vie (1,000,000+ cycles)
 
 
 

Applications :

  1. Fabrication de semi-conducteurs : gravure RIE/ICP, dépôt PECVD/LPCVD, ashing plasma, nettoyage de wafers, systèmes de load lock
  2. Revêtement sous vide : sputtering, évaporation, dépôt de couches minces PVD/CVD pour l’optique, les écrans et les cellules solaires
  3. Traitement plasma industriel : activation de surface, nettoyage, gravure et revêtement pour métaux, plastiques et céramiques
  4. Recherche et développement : laboratoires universitaires, instituts de recherche et lignes pilotes nécessitant une alimentation RF plasma stable

 

 

FAQ :

Q1 : Quelle est la situation du produit et la garantie ?
R : Articles neufs authentiques. Garantie 1 an incluse.

Q2 : Quelles sont vos conditions de paiement ?
R : T/T, Paypal acceptés.

Q3 : Quel est le délai de livraison du produit ? Y a-t-il suffisamment de stock ?
R : Modèles standard en stock, expédiés sous 3 à 5 jours ouvrables après paiement. Les modèles rares nécessitent une commande auprès du fabricant — contactez le service client pour les délais.

Q4 : Expédition et suivi
R : DHL/FedEx/UPS disponibles. Numéro de suivi + lien fournis après expédition. Suivi complet du processus par notre équipe.

Q5 : Emballage et sécurité

 

R : Emballage d’origine de la marque avec protection renforcée (mousse, cartons scellés, caisses en bois pour équipements de précision). Résistant à l’humidité et aux chocs.

 

 

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